1.引言

众所周知，根据摩尔定律，每块芯片的晶体管数量几乎每两年翻一番。光刻分辨率R取决于光源波长λ、数值孔径NA和工艺参数 k1，如下所示、

为了保持摩尔定律的有效性，光源波长逐渐变得越来越短，这是因为分辨率与波长成线性比例。EUV光刻波长为13.5 nm，符合Mo/Si多层反射镜的反射率。几年前为了实现高批量生产(HVM)，在EUV光刻技术中开始使用250 W激光产生的等离子体(LPP)源。在LPP光源中，由CO2驱动激光器和锡液滴产生的锡等离子体为具有EUV光源的光刻机系统提供强烈的EUV光。锡的碎屑对反射式集光镜的污染是该系统的主要问题之一。EUV光刻的另一个问题是随机效应。在极紫外光刻技术中，由于光子能量高得多，在相同剂量下，晶片上单位面积吸收的光子数要比准分子激光器少得多。如果曝光能量不足，晶圆上会出现随机图案缺陷。为了抑制在很高产能吞吐量的情况下的EUV随机效应，需要很高的EUV功率。对于未来光刻机的最大产能吞吐量，需要估算出减轻随机效应所需的EUV功率。3nm节点所需的EUV功率大于1.5 kW, 2nm节点所需的EUV功率大于2.8 kW。因此，未来EUV光刻技术将需要更强大的EUV光源。

All in One Framework for Multimodal Re-identification in the Wild

研究背景

近年来，随着计算机视觉和人工智能技术的快速发展，跨模态和多模态重识别（ReID）任务取得了显著进展。然而，现有的方法大多局限于处理特定配对的模态，如RGB图像与红外（IR）图像、草图或文本之间的重识别，无法有效处理现实世界中不确定的模态输入。此外，大型预训练基础模型（foundation models）在多种视觉任务中表现出色，但在ReID任务中的应用仍处于起步阶段，尤其是其零样本学习能力尚未得到充分利用。

大家都知道，IR公会起初由YY神豪一人哥建立，关于一人哥之前一直在china工会消费，建立IR的起步也是很难的，首先找这个扛大旗的主播就找了一圈，最后锁定阿哲，替阿哲花钱解约赎身！

一个管理一个带头的主播一个负责刷钱的大哥形成了IR大体的框架，在几年的发展中一直到628大战结束，IR公会一越成为3大公会之首，旗下大主播云集，阿哲，天佑这样的大主播每一个都可以独当一面，自身对抗一个次一点的公会不成问题，但是也什么会造成现在这样的局面？四面楚歌，苟延残喘！

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来源：
cnblogs.com/qixuejia/p/4390086.html

本篇文章主要讨论一下我们经常会用到的一些对象：VO、DTO、DO和PO。由于不同的项目和开发人员有不同的命名习惯，这里我首先对上述的概念进行一个简单描述，名字只是个标识，我们重点关注其概念：

概念：

• VO（View Object）：

最近一直在使用React.js开发项目，在开发过程中也用到了一些开源UI组件库。上次有给大家分享React移动端组件库，今天，就给大家推荐9个常用React PC端组件库。

前言：

“它的建筑如此独特、大胆，同时又如此精致，它曾被誉为最美丽的建筑之一。”这是1810年英国百科全书的第18卷对它的描述。

令人惊叹的玫瑰花窗，从中世纪开始就标志着天际线的照明点，到摄影诞生时微观颗粒的细节研究，无不向我们展示着时间流动所划过的轨迹。“它”更是一部满载着时代更替过程中，前沿技术与天马行空般大胆构想的教科书，标示着八个多世纪以来，文化与历史的演化过程。

与人类的进化相比，技术形态的进化往往只是在瞬间的爆发中形成

漂亮有特色的 CSS 组件库，组件代码非常简洁，也支持深度定制主题、定制组件，可以搭配 Vue / React 等框架使用。

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